关于浙江大学20 项专利转让的公示
浙江大学20项专利拟转让，现将相关信息予以公示。
[1] 专利名称：用于浸没式光刻机的气密封和气液分离回收装置
专利号：ZL201210172953.7
专利简介：本发明公开了一种用于浸没式光刻机的气密封和气液分离回收装置。在浸没式光刻机中的投影物镜组和硅片之间装有气密封和气液分离回收装置；气密封和气液分离回收装置包括密封和注液回收装置、气液分离片组和液体回收片组，密封和注液回收装置由浸没单元前端盖和浸没单元后端盖组成。本发明用来完成浸没式光刻系统中缝隙流场的密封和注液回收功能，实现缝隙流场连续稳定的更新。缝隙流场边缘使用气密封结构防止液体泄漏，采用气液分离回收结构实现气体和液体的分离和分别回收，避免了气液两相流的产生，从而避免了气液两相流同时回收时引起的管路振动问题。无论硅片往哪个方向运动，气液分离回收结构都能够动态的调节装置内液面的高度。
[2]专利名称：用于浸没式光刻机的阶梯式自适应气体密封装置
专利号：ZL201210403386.1
专利简介：本发明公开了一种用于浸没式光刻机的阶梯式自适应气体密封装置。该气体密封装置是在投影透镜组和衬底之间的装置，由上构件、下构件和旋转构件组成。在光刻扫描过程中，伴随衬底高速运动对浸没液体的牵拉作用，浸没流场的边界形态会发生迅速变化。该装置内部采用多层阶梯式气密封结构，从中心向外部气密封压力逐渐升高，并且根据衬底的运动方向及速度大小实时调整各层气体的密封压力大小，从而抑制外围气密封压力不足导致浸没液体的泄漏，及内部气密封压力过大导致的气泡卷吸，实现液体的自适应气体密封。同时，在该装置外部采用旋转气流辅助密封，进一步提高了气体密封的可靠性与稳定性。
[3]专利名称：用于浸没式光刻机的旋转滚子密封装置
专利号：ZL201210403590.3
专利简介：本发明公开了一种用于浸没式光刻机的旋转滚子密封装置。旋转滚子密封装置是在投影透镜组和衬底之间的装置，由内构件、外构件、端盖和滚子组成。在光刻扫描过程中，浸没液体伴随衬底高速运动的牵拉作用，将产生与衬底运动方向一致的液体流动。该装置采用旋转滚子密封结构，通过动态调节滚子的旋转速度与方向，使得外围浸没液体获得抵抗衬底运动带来的流动。本发明可有效抵抗衬底牵拉运动产生的向外泄漏动能，在结合外围气体密封下进一步增强抑制液体泄漏的能力；此外本发明在浸没液体边界处可有效抵抗密封气体带来的冲击压力，并抑制气密封压力过大导致的液体边界气泡卷吸，从而有助于实现浸没流场密封的可靠性与稳定性。
[4]专利名称：用于浸没式光刻机的气密封和气液隔离装置
专利号：ZL201210449140.8
专利简介：本发明公布了一种用于浸没式光刻机的气密封和气液隔离装置。在浸没式光刻机中的投影物镜组和硅片之间装有气密封和气液隔离装置；气密封和气液隔离装置由浸没单元上端盖、浸没单元中间体和浸没单元下端盖组成。本发明用来完成浸没式光刻系统中缝隙流场的密封和液体注入回收功能，实现缝隙流场的稳定更新。本发明采用气密封结构防止液体泄漏，采用气液隔离装置将缝隙流场周围的密封气体与内部的浸没液体隔离开来，即采用气体密封液体，液体密封液体的两级密封结构，在保证气密封优点的同时，能够有效的避免气液两相流的产生，同时能够保证缝隙流场边缘的稳定性。
[5]专利名称：非接触式流体元器件振动检测装置
专利号：ZL201210547449.0
专利简介：本发明公开了一种非接触式流体元器件振动检测装置。包括六个结构相同的流场上界面被测流体元器件位姿调节机构、支撑架、三个结构相同的传感测量装置、流场上界面被测流体元器件及其夹持机构、流场下界面结构及其位置调节机构、隔振平台、运动平台、气液管路以及控制器。本发明用于检测缝隙流场下界面静止以及水平运动两种条件下缝隙流场上界面被测流体元器件的振动特性；本发明可实现对缝隙流场的厚度以及上下界面平行度的精确控制；本发明可有效抑制来自地面的振动，并且支撑架具有良好的抗振特性，可实现对微小冲击引起振动的精确检测。
[6]专利名称：用于浸没式光刻机的气密封和气液减振回收装置
专利号：ZL201310070625.0
专利简介：本发明公开了一种用于浸没式光刻机的气密封和气液减振回收装置。在浸没式光刻机中的投影物镜组和硅片之间装有气密封和气液减振回收装置；气密封和气液分离回收装置包括密封和注液回收装置、多孔介质；密封和注液回收装置由浸没单元上端盖、浸没单元中间体、浸没单元下端盖和浸没单元下端盖配件组成。本发明用来完成浸没式光刻系统中缝隙流场的密封和注液回收功能，实现缝隙流场连续稳定的更新。缝隙流场边缘使用气密封结构防止液体泄漏，采用气液减振回收结构实现气体和液体的回收，在低速情况下,避免了气液两相流的产生，在高速情况下,减弱了气液两相流带来的振动。无论硅片往哪个方向运动，缓冲腔结构使缝隙流场具有自适应调节功能。
[7]专利名称：浸没式光刻机浸液液体传送系统中的控制系统的控制方法
专利号：ZL201310186950.3
专利简介：本发明公开了一种浸没式光刻机浸液液体传送系统中的控制系统的控制方法。浸没式光刻机浸液液体传送系统包括控制系统、水处理分系统、传输控制分系统和位姿调节分系统；其中控制系统和浸没式光刻机之间采用工业总线进行连接，控制系统与水处理分系统、传输控制分系统、位姿调节分系统之间采用以太网进行数据交换，控制系统分别负责对水处理分系统、传输控制分系统或位姿调节分系统进行包括故障处理的时序控制方法。本发明能很好地实现对浸没式光刻机中浸液液体传送系统中各分系统进行精准时序控制，并且制定了故障处理机制，从而实现了浸没式光刻机中浸液液体传送的控制系统高效有序地运行。
[8]专利名称：用于浸没式光刻机的多级负压回收密封和气密封装置
专利号：ZL201310205734.9
专利简介：本发明公开了用于浸没式光刻机的多级负压回收密封和气密封装置。在浸没式光刻机中的投影物镜组和硅片之间装有由浸没单元上端盖和浸没单元下端盖组成的多级负压回收密封和气密封装置。本发明利用负压回收液体的同时，还能对液体实现密封。多级负压回收适应硅片较高的扫描速度，提高密封的效果；在浸没单元外侧采用气密封结构，在气体压力均布腔的作用下，密封气体能够很好的约束浸没液体，允许光刻系统具有更高的扫描和步进速度；负压回收密封和气密封结合使用能更好地约束浸没液体，防止浸没单元的内部液体在高速扫描时发生泄漏。
[9]专利名称：流场状态可控的泡状流流道振动检测装置
专利号：ZL201310371045.5
专利简介：本发明公开了一种流场状态可控的泡状流流道振动检测装置。包括四个结构相同的侧面及顶面弹簧位姿调节组件、两个结构相同的底面弹簧位姿调节组件、两个结构相同的水平振动检测组件、竖直振动检测组件、气泡发生器、流道模块及弹簧组件、管路夹持机构、隔振平台、气液管路和控制器。本发明采用弹簧位姿调节连接件连接，消除了悬臂梁结构，使侧面和顶面弹簧位姿调节组件的刚度提高；流道模块通过万向挂钩弹簧进行柔性固定，可实现对微小冲击引起振动的测量；将流道模块化，能方便地将不同的流道与外围装置耦合，实现对不同流道的振动检测；通过调节激振器的激振频率、振幅和输入到气泡生成腔内的气液混合比例可以控制泡状流的流场状态。
[10]专利名称：一种平行板间液桥快速分离的精确观测装置
专利号：ZL201410082357.9
专利简介：本发明公开了一种平行板间液桥快速分离的精确观测装置。上、下基板之间通过导向轴进行连接，下基板固定安装在观测机架上，运动板套在导向轴上上下移动，下基板顶面和运动板底面分别设有上、下平面平晶组件，平行同轴的上、下平面平晶固定在上、下基板上，液桥形成在上、下平面平晶之间；驱动组件位于上基板顶面，驱动组件与运动板组件之间设有拉力测量组件，运动板上设有位移测量组件，观测机架侧面和底部装有高速相机。本发明实现精确观测平行板间液桥快速分离过程，具有平行板平行度高、分离速度垂直度高、测量精度高等优点，可实现不同分离速度条件下平行板间初始间距100μm的液桥轮廓演变和毛细作用力的精确观测。
[11]专利名称：浸没式光刻机中浸液传送系统的控制时序的模型匹配方法
专利号：ZL201410110134.9
专利简介：本发明公布了一种浸没式光刻机中浸液传送系统的控制时序的模型匹配方法。将浸液传送系统的时序控制过程当作状态机构建符合浸没传送系统时序控制过程的扩展有限状态机模型；通过将接收到的系统信息输入量与扩展有限状态机模型进行匹配，实现对浸没式光刻机浸液传送系统的当前状态、控制时序以及当前状态所对应的下一步控制操作进行同时定位。本发明针对具有时序要求的系统的控制时序设计提供了一种简便、高效的设计方法，能够降低系统控制时序的设计周期。
[12]专利名称：用于浸没式光刻机的气密封和微孔密封装置
专利号：ZL201410172815.8
专利简介：本发明公开了一种用于浸没式光刻机的气密封和微孔密封装置。在浸没式光刻机中的投影透镜组和硅片之间设置有气密封和微孔密封装置；气密封和微孔密封装置包括浸没单元基体、浸没单元上端盖、浸没单元下端盖和浸没单元气密封端盖；浸没单元基体上面与浸没单元上端盖接触，浸没单元基体下面依次与浸没单元下端盖和浸没单元气密封端盖接触紧固连接。本发明用来完成浸没式光刻系统中缝隙流场的密封和液体注入回收功能，采用气密封结构和微孔结构防止液体泄漏，在微孔上加上负压对液体进行回收并约束缝隙流场，通过气密封结构实现缝隙流场的密封，同时能够保证缝隙流场边缘的稳定性。通过大流量注液和回收实现缝隙流场内浸没液体的稳定更新。
[13]专利名称：一种用于浸没式光刻机的气密封和两级多孔气液回收装置
专利号：ZL201410285425.1
专利简介：本发明公开了一种用于浸没式光刻机的气密封和两级多孔气液回收装置。包括在投影物镜组和硅片之间安装的气密封及气液隔离装置，其包括浸没单元下端盖和基体；浸没单元下端盖上开有中心锥孔、镜头注液口、镜头回收口、气液分离腔、第二级回收腔、气体注入腔，流场多级缓冲结构、气体缓冲槽以及内、中、外密封槽；浸没单元基体上开有中心通孔、镜头注液腔、镜头回收腔、气体回收腔、基体第二级回收腔、基体气体注入腔和液体回收腔。本发明中的镜头回收结构可回收光刻过程中产生的大量废液，实现流场的快速更新；两级多孔结构可回收液体，维持流场边界的稳定，实现气液分离以及实现流场的初步密封；并采用气密封结构防止液体泄漏。
[14]专利名称：浸没式光刻机流体控制系统的模块化工作流程控制方法
专利号：ZL201410361764.3
专利简介：本发明公开了一种浸没式光刻机流体控制系统的模块化工作流程控制方法。根据目标系统流体的传输路线及流体性质，将该系统分为多个具有不同功能的控制模块；分别制定每个控制模块各自的工作流程、状态位及故障位；采用阻塞方法进行自动模式下各个控制模块之间工作流程的时序配合，通过调用控制模块的接口对手动模式下各个控制模块的工作流程进行控制。本发明使系统中各个模块可独立工作，减少单个模块出现故障对系统的影响，减小了功能模块的耦合度，提高系统控制的灵活度；同时模块间能够自动进行时序流程操作及故障保护，保证模块间能够高效协调配合，简化了控制过程，保证了流体控制系统设计过程的有效性、高效性及可靠性。
[15]专利名称：基于亲疏水交替表面的浸没流场密封方法
专利号：ZL201410818565.0
专利简介：本发明公开了一种基于亲疏水交替表面的浸没流场密封方法。包括两级亲疏水密封：第一级亲疏水密封位于浸没单元的回收流道与浸没单元外缘边界之间，且靠近回收流道；第二级亲疏水密封位于浸没单第一级亲疏水密封的疏水环和浸没单元外缘边界之间，靠近浸没单元外缘边界。采用两级亲疏水密封，对流场边界处发生外溢的浸没液体和独立的泄漏液滴均能很好的进行密封；不存在气流不均匀、压力集中、前进弯月面卷吸气泡等问题，并能减少由气密封引入的系统振动；同时可以降低气密封方法在整体流场密封中所占比例，在保证曝光质量的前提下，提高光刻机的扫描速度，进而提高光刻系统的产能；本发明可直接用在现有的光刻机上，简化系统结构，降低制造成本。
[16]专利名称：基于动态压力检测的浸没流场自适应密封方法
专利号：ZL201410817054.7
专利简介：本发明公开了一种基于动态压力检测的浸没流场自适应密封方法。在浸没式光刻系统中投影透镜组和待曝光硅片衬底之间的浸没单元内部进行的密封方法，通过在回收流道和气密封通道之间周向布置一圈压力传感器来实现流场泄漏状况的实时监测和气密封装置注气量的自适应控制。本发明通过对回收流道与气密封通道中间区域的压力进行检测，实现对浸没流场泄漏状况的实时监测；并且将此信号反馈给气密封装置，气密封装置依据此信号实时的改变其进气量，进行动态的自适应密封，保证了最佳的密封效果的同时，降低了过高的气密封压力导致的前进接触角处的液体卷吸气泡的问题及硅片所受应力过大等问题，同时减少了气体的损耗，较大程度的优化气密封装置的性能。
[17]专利名称：一种用于浸没式光刻机的气液隔离装置
专利号：ZL201510020186.1
专利简介：本发明公开了一种在浸没式光刻机中的投影物镜组和硅片，投影物镜组和硅片之间安装有气液隔离装置。气液隔离装置从下至上依次包括浸没单元表面块、浸没单元下端盖、浸没单元主体和浸没单元上端盖，用螺钉连成一体。本发明第一层为水平回收，通过水平回收结构回收大量液体，实现流场的快速更新，同时保证镜头区液面维持一定高度，液面不至于超过浸没单元，发生溢流，气体也不会因此随水平注液带入浸没流场，形成不完整填充。第二层为垂直回收，通过沿圆周均匀分布的垂直小孔群结构，对缝隙流场的气液边界进行了初步束缚；采用亲水、疏水结构相配合的工作的方式，利用液体在亲、疏水交界处的张力特性加强对气液边界的束缚，达到理想密封的效果。
[18]专利名称：一种用于浸没式光刻机的垂直回收和气密封装置
专利号：ZL201510423584.8
专利简介：本发明公开了一种用于浸没式光刻机的垂直回收和气密封装置。在浸没单元基体上开有中心锥孔，底面开有垂直气液回收腔和注气腔，浸没单元基体开有水平注液口和、水平液体回收口、注气口和垂直气液回收口；浸没单元下端盖上开有中心通孔，浸没单元下端盖顶面开有垂直气液回收孔槽和气密封孔槽；垂直气液回收孔槽上开有垂直气液回收孔，气密封孔槽开有气密封孔，其个微孔均位于相邻道垂直回收孔中最紧邻的两个微孔中垂线上。本发明完成浸没式光刻系统中缝隙流场的密封功能，通过垂直回收的回收负压和气密封的气体流，约束浸没液体的流场边界，保证光刻机在高速运转过程中浸没液体不发生泄漏。
[19]专利名称：一种用于浸没式光刻机的气密封及水平和垂直注液回收装置
专利号：ZL201510479159.0
专利简介：本发明公开了一种用于浸没式光刻机的气密封及水平和垂直注液回收装置。在浸没式光刻机中的投影物镜组和硅片之间置有本发明装置；包括浸没单元下端盖、浸没单元基体、垂直注液孔板、焊接盖板和注气盖板，浸没单元下端盖、垂直注液孔板及注气盖板安装在浸没单元基体下表面，浸没单元基体上表面开有气和液的流道，流道通过焊接盖板密封覆盖。本发明能满足浸没式光刻系统中缝隙流场的密封、液体的注入回收、核心流场的流速均一以及缝隙流场稳定更新的要求；采用气密封结构和垂直注液回收结构实现缝隙流场的密封，采用特殊的水平注液及回收结构保证了核心流场的流速均一性要求并降低水平回收由于气液两相流产生的振动和噪声。
[20]专利名称：浸没式光刻兼容温控的分流控制和压力跟随装置及方法
专利号：ZL201510924221.2
专利简介：本发明公开了一种浸没式光刻兼容温控的分流控制和压力跟随装置及方法。包括主路通道、分流通道和应用通道：主路通道出口分为两路分别连接到分流通道和应用通道，应用通道中再分两路，一路与分流通道合流排液，另一路连接到浸没单元；热交换器流出的浸没液体分为两路，一路经比例控制阀后到第一单向止回阀，另一路输入到气动二位三通阀中流向切换；经二位三通阀再分两路，一路经流量计后到浸没单元，另一路与第一单向止回阀流出的合流后排液。本发明能够使温度调控功能不再因为通流流量变化而导致响应慢、调控不稳的缺陷产生，进而影响温控效果，同时实现了对注入浸没单元的浸液流量的有效调控和在停止供液状态下通过内部持续流动而避免二次污染。
转化方式：转让
定价方式：挂牌交易
公示期自2020年3 月27 日至2020年4月10日。如有异议，请在公示期内向机械工程学院科研科或者科学技术研究院提交异议书及有关证据。
机械工程学院科研科
电话：87951275，邮箱：sme_rd@zju.edu.cn
科研院
电话：88981082，邮箱：kyc1@zju.edu.cn
科学技术研究院
2020年3月27日